Sistema de pulverización catódica magnétron de cuatro cámaras cuadradas

Sistema de pulverización catódica magnétron de cuatro cámaras cuadradas

Diseñado para recubrimientos de películas delgadas de gran área, este sistema de pulverización catódica magnétron de cuatro cámaras permite la deposición secuencial o reactiva de metales sobre silicio cristalino en condiciones de alto o bajo vacío.

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