Messinstrument für den Kerr - Effekt auf Wafer - Ebene

Dieses System nutzt den polaren magneto - optischen Kerr - Effekt (polar MOKE), um die magnetischen Eigenschaften von Waferstapeln vor und nach dem Musterungsprozess zerstörungsfrei zu analysieren und verfügt über die Fähigkeit zur Ganzfeldmessung.