Quadratisches Vierkammer - Magnetron - Sputtersystem

Dieses Vierkammer - Magnetron - Sputtersystem ist für die Beschichtung von großen Flächen mit Dünnfilmen konzipiert. Es ermöglicht die sequenzielle oder reaktive Abscheidung von Metallen auf kristallinem Silizium unter Hoch - oder Niedervakuum.