이 시스템은 재료 및 스핀트로닉 소자에서의 자화 상태와 자기 도메인의 변화를 높은 공간 정밀도로 실시간으로 시각화할 수 있습니다.
이 시스템은 극자기 광학 케르 효과(polar MOKE)를 사용하여 패터닝 전후의 웨이퍼 적층체의 자기 특성을 비파괴적으로 분석하며, 전장 측정 기능을 갖추고 있습니다.
이 시스템은 극자기 광학 케르, 종자기 광학 케르, 횡자기 광학 케르 신호를 포착하여 표면 자화 분석을 수행하며, 히스테리시스, 보자력 및 포화 자장을 포함합니다.
이 미세 자기 광학 케르 효과(MOKE) 시스템은 작은 영역에서 비접촉식 자기 히스테리시스 측정을 가능하게 하며, 정확한 보자력, 잔류 자화 및 포화 자장 값을 제공합니다.
이 연구용 자기 광학 케르 효과(MOKE) 시스템은 면내 및 면외 히스테리시스 루프를 동시에 측정할 수 있으며, 자성 재료의 고정밀도 분석에 적합합니다.