СИСТЕМА НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ЭЛЕКТРОННОМ ЛУЧЕМ
СИСТЕМА НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ЭЛЕКТРОННОМ ЛУЧЕМ используется для точного нанесения покрытий на проводящие, оптические и полупроводниковые пленки. Она поддерживает исследовательские работы по термическому вакуумному нанесению покрытий в лабораторных условиях.
ПРОГРЕССИВНАЯ ЛАЗЕРНАЯ СИСТЕМА НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ CMT-450B
ПРОГРЕССИВНАЯ ЛАЗЕРНАЯ СИСТЕМА НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ CMT - 450B позволяет точное нанесение сверхпроводящих, полупроводниковых и функциональных тонких пленок. Идеально подходит для научных исследований и создания прототипов.
ПИРИФОРМНАЯ ОДНОКАМЕРНАЯ МАГНЕТРОННАЯ УСТАНОВКА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ
ПИРИФОРМНАЯ ОДНОКАМЕРНАЯ МАГНЕТРОННАЯ УСТАНОВКА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ представляет собой компактную установку для нанесения наноразмерных монослойных и многослойных тонких пленок. Подходит для академических исследований и малого масштаба производства тонких пленок.
ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ЛАЗЕРНОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ С ВЫСОКОЙ ЭНЕРГИЕЙ CMT-450A
ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ЛАЗЕРНОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ С ВЫСОКОЙ ЭНЕРГИЕЙ CMT - 450A разработано для изготовления сверхпроводящих, полупроводниковых и сегнетоэлектрических тонких пленок в рамках научных исследований и разработок, а также при экспериментальном производстве.
КВАДРАТНАЯ ЧЕТЫРЕХКАМЕРНАЯ СИСТЕМА МАГНЕТРОННОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ
КВАДРАТНАЯ ЧЕТЫРЕХКАМЕРНАЯ СИСТЕМА МАГНЕТРОННОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ разработана для нанесения тонких покрытий на больших площадях. Эта система позволяет последовательно или реактивно наносить металлические покрытия на кристаллический кремний в условиях высокого или низкого вакуума.
СИСТЕМА ВЫСОКОЧИСТОГО МАГНЕТРОННОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ
СИСТЕМА ВЫСОКОЧИСТОГО МАГНЕТРОННОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ предназначена для изготовления тонких пленок с нано - и микроструктурами. Эта система поддерживает нанесение металлических, оксидных, нитридных и диэлектрических пленок с использованием гибких режимов работы с двумя мишенями.
СИСТЕМА ФИЗИЧЕСКОГО НАНЕСЕНИЯ ПАРА ЭЛЕКТРОННОМ ЛУЧЕМ (EB - PVD)
СИСТЕМА ФИЗИЧЕСКОГО НАНЕСЕНИЯ ПАРА ЭЛЕКТРОННОМ ЛУЧЕМ (EB - PVD) обеспечивает высокоэффективное нанесение паров тугоплавких металлов и керамики с использованием нагрева электронным лучом под углом 270° и плазменной очистки поверхности.
КОМПАКТНАЯ СИСТЕМА МАГНЕТРОННОГО НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПОКРЫТИЙ
КОМПАКТНАЯ СИСТЕМА МАГНЕТРОННОГО НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПОКРЫТИЙ предназначена для изготовления тонких пленок нанометрового масштаба. Подходит для нанесения металлических, диэлектрических и полупроводниковых покрытий в академических и исследовательских условиях.
СИСТЕМА ЛАЗЕРНОЙ МОЛЕКУЛЯРНО - ЛУЧЕВОЙ ЭПИТАКСИИ (MBE)
СИСТЕМА ЛАЗЕРНОЙ МОЛЕКУЛЯРНО - ЛУЧЕВОЙ ЭПИТАКСИИ (MBE) позволяет проводить эпитаксиальный рост сложных тонких пленок, включая материалы с высокой точкой плавления, многоэлементные материалы и материалы, содержащие газы, для исследований и разработок в области современных материалов.
ВАКУУМНАЯ МАШИНА ДЛЯ ТЕРМИЧЕСКОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ
ВАКУУМНАЯ МАШИНА ДЛЯ ТЕРМИЧЕСКОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ позволяет наносить металлические, оксидные, полупроводниковые и органические пленки с использованием резистивного нагрева. Идеально подходит для исследований и предварительных испытаний перед производством.